气相沉积法利用含碳化合物作为碳源,通过其在铜衬底表面的高温分解生长石墨烯。CVD方法制备石墨烯简单易行,单层率高,质量优异,可实现大面积生长,而且较易转移到各种基体上使用。
货号 |
产品规格 |
产品参数 |
产品包装 |
MFVU-1060 |
尺寸<100cm2 |
单层覆盖率>98%; I2D/IG>2; 无明显拉曼D峰; W2DFWHM≈30cm-1 |
1片/盒 |
MFVU-1061 |
尺寸>100cm2 |
单层覆盖率>85%; I2D/IG>2; W2DFWHM≈30cm-1 |
1片/盒 |
智能手机
平板电脑
笔记本电脑
LED照明设备